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        據(jù)《韓國經(jīng)濟(jì)新聞》2月18日報道，據(jù)韓國半導(dǎo)體行業(yè)2月18日消息，石化和電子材料制造商Jaewon Industrial實(shí)現(xiàn)了丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）的商業(yè)化。PGMEA是極紫外光刻（EUV）工藝關(guān)鍵原材料之一，也是半導(dǎo)體行業(yè)常用的一種溶劑。

        該公司已在位于韓國麗水市的工廠量產(chǎn)PGMEA，并從去年年底開始向韓國芯片制造商供應(yīng)。韓國是世界兩大存儲芯片制造商——三星電子和SK海力士的所在地。

        Jaewon表示，一些韓國企業(yè)在PGMEA開發(fā)方面取得了成功但尚未實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。Jaewon是首家實(shí)現(xiàn)PGMEA量產(chǎn)的韓國公司。

        PGMEA稀釋劑主要用來清洗光刻膠，處理在極紫外光刻曝光過程中沒有產(chǎn)生EUV光敏反應(yīng)的部分。若在曝光過程之前將該溶劑涂抹在晶片上，還有助于減少感光材料的使用量。

        通過EUV工藝制造的半導(dǎo)體具有極其精細(xì)的電路，因此微小雜物也會降低產(chǎn)品質(zhì)量。鑒于此，EUV工藝需要純度為99.999%或更高的PGMEA。

        迄今為止，高純度PGMEA主要由大賽璐（Daicel）等日本制造商生產(chǎn)，韓國公司具有的技術(shù)只可提高PGMEA的純度，而不能將丙二醇單甲醚（PGME）合成為PGMEA。因此，韓國一直從日本進(jìn)口高純度的PGMEA或從中國進(jìn)口純度較低的溶劑。

        成立于1987年Jaewon在2018年自主研發(fā)PGMEA合成技術(shù)，并在去年將PGMEA產(chǎn)能擴(kuò)大到3萬噸，開始進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。

        在此之前，該公司對進(jìn)口的PGMEA進(jìn)行純化，并將其供應(yīng)給三星SDI、LG顯示和SK海力士等當(dāng)?shù)匦酒圃焐毯惋@示器生產(chǎn)商。

        Jaewon預(yù)計韓國芯片制造商將在上半年開始將其PGMEA用于極紫外光刻工藝，從而每年減少約1000億韓元（約合人民幣5.3億元）的PGMEA進(jìn)口費(fèi)用。

        Jaewon相關(guān)人士表示，該公司考慮在美國生產(chǎn)PGMEA，并為在美國建立電池材料工廠尋找土地。